可控蒸发混合器-解决方案-北京精量科技有限公司

某半导体企业:超短货期,稳定供货助力薄膜沉积工艺

2024-10-14 09:33:52


图片来源:pexels

项目背景:半导体迎来第二发展曲线

在生成式人工智能推动下,今年半导体产业大幅反弹。根据多方预测,半导体行业将持续增长,2030年有望突破1万亿美元里程碑。 在我国,面对半导体被‘卡脖子’的严峻现实,其发展速度居全球之首,且需求量较大。国家对半导体发展也高度重视,并持续提出支持政策。


企业概况:致力于半导体技术国产化

精量科技服务的某半导体企业致力于国产化替代,专业布局碳化硅工艺,经过多年工艺积累,目前形成以刻蚀工艺设备、薄膜沉积工艺设备等系列产品,主要用于半导体前道工艺阶段,如碳化硅、氮化镓等化合物半导体加工。


工况需求:超供货周期,保证生产质量
该半导体企业为下游客户提供薄膜沉积、刻蚀、除胶等设备,用于在基底材料上制作和沉积薄膜图层,以形成芯片的功能层。在化学气相沉积(CVD)过程中,需用气液混合蒸发器将液体源材料蒸发并混合,从而在沉积过程中形成均匀的薄膜。
 该半导体企业联系精量科技,了解精量科技蒸发器产品,以替代某国外品牌,并提出以下需求: 
1.供货周期短且稳定; 
2.确保液体完全蒸发; 
3.响应速度快,混合蒸发气体输出均匀; 

4.液体流量精度达到规定标准.


解决方案:供货周期短,保证生产质量
精量科技了解需求后,根据混合的介质及工况,为客户设计气液混合蒸发系统。 

系统配置了可控蒸发混合器x1、液体质量流量控制器x1、气体质量流量控制器x1、温度控制仪x1。



图:用于气液混合蒸发系统的ACU20CEM可控蒸发混合器产品 


系统配置如下: 

可控蒸发混合器:采用 ACU20CEM型号,气体最大量程10 ln/min,液体(水)最小量程120g/h。 
液体质量流量控制器:ACU20FE 科里奥利质量流量控制器,准确度±0.25% F.S,重复精度0.05% F.S。 
气体质量流量控制器:ACU20FD高精度控制器,准确度±0.5% F.S,重复精度 ±0.2% F.S。 

温度控制仪:可控制最高达200℃~300℃高温,充分满足指定介质蒸发条件。


项目收益:助力高效、高质量镀膜制备
该半导体企业使用精量科技的气液混合蒸发系统,在整体精度、响应时间、蒸发效率、流量等性能和指标都满足该企业既有工况和要求。在具体使用过程中,取得了以下收益: 
1.保障生产工作正常进行 
精量科技近10年的积累,从研发、生产、调试到发货,建立了高效的供货系统。其供货周期短,不影响客户使用和正常作业。凭借高效的生产和调试程序,能满足客户对订货时间及数量的要求。 
2.确保高质量薄膜工艺 
系统均采用精度高的配置设备,充分满足沉积工艺过程中出气均匀、蒸发高效、响应时间快的标准要求。 
3.助力高效的薄膜生产工作 
精量科技的气液混合蒸发系统整体性能稳定可靠,量程范围宽,满足不同作业环境下的需求,助力企业高效稳定生产集成电路薄膜。 


在部分半导体以及新材料等工艺中进行精确混合蒸发,以确保沉积出的薄膜质量稳定。精量科技的蒸发系统在气液混合环节发挥重要作用,已获国内多家涉及薄膜沉积工艺的企业认可,并与之达成长期战略合作关系。


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